お知らせ

2025年10月10日

Nanoscale誌に論文が掲載されました

二次元半導体にレーザー光を照射してから水に漬けると、照射部分が除去されてパターニングが可能であることを見出した論文が、Nanoscale誌に掲載されました。既存のパターニング手法での問題点（リソグラフィーでのレジスト残渣やレーザーアブレーションでの熱ダメージ）を軽減可能な新手法になり得る成果です。

筆頭著者は卒業生の田原君です。論文は次のリンクからどうぞ。