実績

2023年11月21日

  • 論文発表

研究員の論文が AIP Advances に採択されました。

Islam M.E. , Shimamoto K. , Yoshimura T. , Fujimura N.

Low-temperature homoepitaxial growth of β-Ga2O3 thin films by atmospheric pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition technique

AIP Advances, 2023, 13, 11, 115224 1-5

DOI: 10.1063/5.0178100