実績

2023年8月9日

  • 論文発表

院生の論文が Japanese Journal of Applied Physics に採択されました。

Naito K. , Yamaguchi K. , Yoshimura T. , Fujimura N.

The ferroelectric orthorhombic phase formation of Hf0.5Zr0.5O2thin films on (-201) β-Ga2O3substrate by atomic layer deposition

Japanese Journal of Applied Physics, 2023, 62, SM1018 1-5

DOI: 10.35848/1347-4065/ace917