新着論文
2026年2月11日
【New publication】数ナノメートルスケールのシリカナノ粒子を用いることで、400℃の低温プロセスにより透明シリカ構造体の作製に成功しました！
従来、3D造形による透明シリカガラス構造の作製には、空隙の除去と材料の緻密化のために1000℃を超える高温処理が必要とされていました。そのため、CO₂排出量の増大や、複合機能材料への応用が制限されるという課題がありました。
本研究では、数ナノメートルスケールのシリカナノ粒子と光化学反応を組み合わせることで、室温での3D造形と、400℃という低温プロセスにより透明シリカ構造体の作製を達成しました。
本研究成果は、省エネルギーなガラス製造プロセスの実現に貢献するだけでなく、今後、マクロスケールにおいても透明なシリカ構造体の実現が期待されることを示したものです。これにより、複雑形状を有する光学材料やマイクロデバイスへの応用展開が期待されます。
本成果は、小北君（修士1年・当時）を中心に、日名子君（2024年度修士修了）、およびソニーグループ（株）との共同研究により得られたものです。
Okada K., Kokita J., Hinago D., Sakamoto S., Fukatsu A., Takahashi M., Low-Temperature Fabrication of Transparent Silica Structures via 3D Printing: A Sustainable Approach for Energy-Efficient Additive Manufacturing. ACS Appl. Eng. Mater (2026). https://doi.org/10.1021/acsaenm.5c01162
