有機修飾ボロシロキサン薄膜から、アルコール蒸気処理でホウ酸成分のみを除去できることを見つけました！無機テンプレートを使った次世代ナノパターン形成への応用が期待されます。 M2のカリムさんが中心となって進めている研究です！

“Alcohol-induced deboronation of organoborosilicate thin films”
J Sol-Gel Sci Technol,  (2022)（Invited paper）
https://link.springer.com/article/10.1007/s10971-022-05897-8