37_集束イオンビーム（FIB）ナノ加工顕微鏡装置

集束イオンビーム（FIB）ナノ加工顕微鏡装置（日本電子：JIB-4000）

計測 分析法

FIB

イオン源

 Ga液体金属イオン源
保証分解能 5nm（加速電圧：30kV）
最大ビーム電流 60nA（加速電圧：30kV）
特徴加速電圧 1～30kV
試料移動方式 5軸モータステージ（標準）

機器名 メーカー名 型番

37_集束イオンビーム（FIB）ナノ加工顕微鏡装置(日本電子株式会社)JIB-4000【購入年:H24，小林中，中百舌鳥 B7棟E106号室】

仕様 特徴

  1. 早く、綺麗な加工
    大電流イオンビームにより目的の試料をより早く、綺麗に加工することが可能
  2. 加工ダメージの低減
    低加速電圧の加工により加工ダメージの低減が可能
  3. 安全性
    ソフトウェアでの各種操作はオペレ－タ別にログイン/ログアウトで管理が可能
    省エネモ－ドにより、加工終了後のGaイオン源の消費低減を実現
  4. 多彩なGIS
    最大2基のGISを装備可能。目的に応じたガスの使用が可能
  5. 省スペース
    省スペース設計の鏡筒架台と操作架台で構成

学内 利用料金設定

    • 本人測定：料金は別途お問い合わせください。

学外 利用料金設定

    • 本人測定：31,000円 / 時間　※別途 技術指導料（3,000円/時間）がかかります。
    • 学術指導：実施及び費用は双方で協議の上、決定します。
    • 共同 受託研究：実施及び費用は双方で協議の上、決定します。
管理部局

工学研究科

設置場所

中百舌鳥キャンパス B7棟 E106号室

問い合わせ先

大阪公立大学　杉本キャンパス　研究推進課　研究基盤共用センター