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2025/11/5-7に仙台市戦災復興記念館で開催された The 2025 International Workshop on “Dielectric Thin Films for Future Electron Devices: Science and Technology” (IWDTF2025) において、東脇教授が「窒素ドーピングのGa₂O₃電気的特性への影響」に関する招待講演を行いました。

M. Higashiwaki, "Effects of nitrogen doping on electrical properties of Ga₂O₃"