2018卒　あしだ　こうへい

卒業論文：
「フォトリソグラフィを用いて作製した高Q値シリコンナノ共振器」

修士論文：
「フォトリソグラフィで作製した高Q値シリコンフォトニック結晶ナノ共振器」

【受賞歴】
2018/03/19
『応用物理学会　シリコンテクノロジー分科会　研究奨励賞』
芦田　紘平（Kouhei Ashida)
<公益財団法人　応用物理学会>


【発表論文】
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Kohei Ashida, Makoto Okano, Takamasa Yasuda, Minoru Ohtsuka, Miyoshi Seki, Nobuyuki Yokoyama, Keiji Koshino, Koji Yamada, and Yasushi Takahashi
”Photonic Crystal Nanocavities with an Average Q factor of 1.9 million Fabricated on a 300-mm-Wide SOI Wafer Using a CMOS-Compatible Process”
（Journal of Lightwave Technology 36(20), 4774-4782 (2018)）
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Takahiro Ito, Kohei Ashida, Kei Kinoshita, Rai Moriya, Tomoki Machida, Kenichi Maeno, Tatsuro Endo, Koji Yamada, Makoto Okano, Yasushi Takahashi
”Nondetrimental Surface Modification of Ultrahigh-Q Photonic Crystal Silicon Nanocavities”
（CLEO Pacific Rim (CLEO-PR 2018)W4D.3, Hong Kong, China）
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Risa Shiozaki, Kohei Ashida and Yasushi Takahashi
”Robust Excitation of High-Q Nanocavities via a Super-Luminescent Diode”
（Proceedings CLEO Pacific Rim 2018, W3A. 116）
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Kohei Ashida, Makoto Okano, Minoru Ohtsuka, Miyoshi Seki, Nobuyuki Yokoyama, Keiji Koshino, Masahiko Mori, Takashi Asano, Susumu Noda, and Yasushi Takahashi
”Ultrahigh-Q photonic crystal nanocavities fabricated by CMOS process technologies”
（Optics Express, 25, 18165-18174 (2017)）
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