分光エリプソメーター

仕様 特徴

分光エリプソメーターは、薄膜の厚さや屈折率を非破壊で高精度に測定する光学機器です。反射光の偏光変化を解析することで、ナノレベルの膜構造評価が可能です。材料開発や半導体製造など、幅広い分野で利用されています。

分光エリプソメーターの具体的な測定対象は以下のようなものがあります。

・半導体薄膜（SiO₂、Si₃N₄、ポリシリコンなど）

・光学コーティング（反射防止膜、ミラーコーティングなど）

・有機・無機材料の多層膜

・フォトレジスト膜（リソグラフィ工程で使用）

・透明導電膜（ITOなど）

・有機薄膜（OLED材料、感光性材料など）

・太陽電池材料（CIGS、ペロブスカイトなど）

・バイオ材料膜（自己組織化単分子膜（SAM）など）

これらの膜の膜厚、屈折率、消衰係数、表面粗さなどを非破壊で精密に評価できます。

測定方式	回転補償子方式
測定波長範囲	250 - 990 nm (1.25 - 4.96 eV)
波長分解能	約0.8 nm
標準測定光形状	365 μm x 470 μm（集光式）
入射角度	60 - 75°，5°ステップ（手動切替）
測定ステージ	XY自動マッピングステージ