金属顕微鏡システム

仕様 特徴

反射・透過照明両用型の装置であり、反射型では明視野、暗視野、偏光、微分干渉、蛍光、二光束干渉観察に対応しています。また、透過型では明視野、暗視野、偏光、位相差、微分干渉観察が可能です。さらに、1～20 μm程度の試料をピックアップできるナノピンセットを装備しており、半導体デバイス、電子部品、素材・材料、精密金型などの用途に対応できます。
・顕微鏡：工業顕微鏡 UDM ECLIPSE LV100D-U
・反射照明装置：LV-UEPI2
・観察法： 　

 ・反射：明視野、暗視野、偏光、微分干渉、蛍光 　

 ・透過：明視野、暗視野、偏光、位相差、微分干渉 　

 ・その他：オルソスコープ、コノスコープ
・対物レンズ： 　

 ・LU Plan BD ELWD：5×、10×、20× 　

 ・L Plan EPI SLWD：50× 　

 ・LU Plan BD Fluor：50×、100×
・デジタルカメラ：DS-Fi1
・ソフトウェア： 　

 ・画像総合ソフトウェア：NIS-Elements 　

 ・画像タイリングシステム：e-Tiling
・付属システム： 　

 ・卓上型空気ばね式除振装置：AVT-0506NC 　

 ・トランスファーマン：NK2 　

 ・ナノピンセットシステム