X線光電子分光装置

仕様 特徴

本装置は、金属、セラミックス、高分子材料など、さまざまな試料に対応した分析装置です。
測定操作は極めて簡単であり、高度な自動分析機能とデータ処理機能を備えています。軟X線照射によって固体表面から放出された光電子の結合エネルギーを測定する手法を用いており、数ナノメートル程度の浅い領域から情報を取得することができます。また、化学シフトにより酸化状態や官能基の違いを把握でき、試料へのダメージが小さく絶縁物の分析も容易です。

【主な特徴】

・多様な試料（金属、セラミックス、高分子材料など）に対応
・測定操作が簡便で自動分析機能が充実
・固体最表面近傍（数nm）の情報取得が可能
・化学シフトにより化学状態の解析が可能
・試料ダメージが小さく絶縁物の分析も容易

【測定例1：材料の品質管理・製造管理】

・金属材料：酸化膜厚、不働態膜、表面汚染、腐食、表面処理の評価
・ガラス・セラミックス：表面組成、コーティング、偏析、変質の管理
・電子・半導体材料：有機汚染、薄膜・多層膜の膜厚、潤滑膜の測定、表面処理管理
・高分子材料：表面改善、接着性評価、汚染評価、撥水処理、コーティング管理
・触媒：活性度評価

【測定例2：不良解析・研究用途】

・触媒の失活：金属の酸化度測定、表面有機物汚染の評価
・すべり性の低下：潤滑膜厚、コーティング剥離、潤滑層の酸化評価
・材料表面の変色：汚染元素測定、状態分析、原因究明、腐食評価
・高分子フィルム：接着性低下の解析（官能基、表面酸素濃度測定）