卓上型全反射蛍光X線分析装置

卓上型全反射蛍光X線
分析装置

卓上型全反射蛍光X線分析装置

メーカー名/型番

リガク NANOHUNTERⅡ

設置場所

杉本 工学部B棟116W室

※学内者の方へ:予約システムで予約状況を確認するには、事前に該当機器の利用登録が必要です。未登録の方はお問合せ下さい。

仕様 特徴

本装置は、全反射蛍光X線分析法(TXRF)を採用し、液体中や固体表面に存在する極微量元素をppbレベルで高感度に分析できる卓上型分析装置です。試料に対してすれすれにX線を入射することで、低バックグラウンドかつ高感度な測定を実現しています。簡便な前処理により微量試料の測定が可能であり、内標準物質を用いた定量分析にも対応しています。


【主な特徴】
・ppbレベルの高感度分析が可能
・液体および固体表面の極微量元素分析に対応
・簡便な試料前処理(滴下・乾燥)で測定可能
・内標準法による定量分析が容易
・卓上型で操作性・機動性に優れる


【仕様】
・測定可能元素:Al~U(試料による)
・試料形状:約10 µL(液体試料)
・検出限界:約0.8 ppb(※Cdは約2 ppb)
・特徴:微量液体および固体表面付着物の高感度分析


【測定用途・例】
・工場廃液中の微量元素(As、Se、Cdなど)の分析
・飲料(ワインなど)の成分分析
・固体表面の極微量付着物の評価


【機能・性能】
・600 W高出力X線源と新開発ミラーにより高強度・高感度測定を実現
・大面積SDD検出器を搭載
・Kα線を用いた高精度分析(Cdなどの測定に有効)
・入射角度変更により深さ方向分析(斜入射XRF)に対応


【その他の特長】
・少量試料(10~50 µL)で測定可能
・16試料オートサンプラーによる自動・連続測定が可能
・AC100V電源で稼働、分析ガス不要
・設置・運用が容易(特別な届出不要)


【従来機からの主な強化点】
・600 Wの高出力X線源により大幅な感度向上
・Cu励起で約10倍、Mo励起で最大100倍の感度向上
・広範囲元素(Z=30~41、44~49)の高効率励起が可能

利用料金(学外)

委託利用料
12,700円/時間

※学内料金についてはお問合せください。

管理者:共用研究機器センター