活動情報

■日時　8月16日（水）14時00分～17時00分

■会場　大阪公立大学　中百舌鳥キャンパス　B4棟 W220室、W209室

■内容　電子ビームを使ったナノワールド作製と観察―最先端の超微細構造作製技術と電子顕微鏡観察の実践―③

■概要　【電子顕微鏡観察とフォトリソグラフィ】
実験内容の説明後、電子顕微鏡を使った微細パターンの観察とフォトリソグラフィによる微細パターン作製を2班に分かれて各実験を交代で行った。

◎電子顕微鏡を使った微細パターンの観察
①2回目で行った電子線ビームリソグラフィで作製したシリコン基板上のレジストパターン表面に導電性を付与するためコータを用いて金の極薄膜をコートした。
②試料を試料台に固定し、走査型電子顕微鏡で作製した微細パターンの観察を行った。教員が指示しながら生徒自身が操作を行って微細パターンを観察した。各生徒が必ず電子顕微鏡を操作するように配慮した。

◎フォトリソグラフィによる微細パターン作製
①アライナーを使った密着露光で微細パターンの作製を行った。各自が幅4μmのラインアンドスペースを露光後、フィルムマスクで自分の名前のイニシャルを重ね露光した。
②専用現像液で現像を行い、レジストパターンを作製した。幅4μmのラインアンドスペースの部分は光の干渉により虹色に見えるが、イニシャルの部分はラインアンドスペースパターンが無くなっているので虹色には見えない。各生徒にオリジナルの微細パターン付きパターンを作製してもらった。