活動情報

■日時　8月21日（月）13時00分～16時00分

■会場　大阪公立大学　中百舌鳥キャンパス　B4棟 W220室、W209室、B4-西K205

■内容　電子ビームを使ったナノワールド作製と観察―最先端の超微細構造作製技術と電子顕微鏡観察の実践―④

■概要　【電子顕微鏡観察とフォトリソグラフィ】
前半に電子線リソグラフィで作製したパターンの解析、後半に電子顕微鏡観察２を行った。

◎電子線リソグラフィで作製したパターンの解析
3回目に電子線リソグラフィで作製した0.4μmと0.8μmの円パターンを上面から電子顕微鏡で観察した。この実験では各円パターンを6つの露光量でパターニングした。前回撮影した電子顕微鏡写真より各円パターンの直径を測定し、露光量と円パターンの直径との関係を調べた。

◎電子顕微鏡観察２
前回の電子顕微鏡観察ではパターンを上面から観察したため、円の直径はわかるがパターンの断面形状はわからない。作製したパターンは長さ方向に1mmの範囲につくったので、その中央で基板を割って断面を出しパターン断面の観察を行った。その結果パターンの断面はほぼ垂直でシリコン基板まできれいな円柱となっていることがわかった。