活動情報

■日時　７月27日（土）13時00分～17時00分

■会場　大阪公立大学　中百舌鳥キャンパス C10棟

■内容　小さな絵を描こう～微細加工のすすめ～②

■概要　クリーンルームに入室し、前回フォトレジストを塗布した基板に、準備してきた画像ファイルのパターン形状で紫外線を露光した。次に露光した基板を１分程度現像液に浸した。このような現像操作により紫外線が照射された部分のフォトレジストが溶け、フォトレジストによるパターン形状が基板上に形成された。