活動情報

■日時　７月28日（日）13時00分～16時00分

■会場　大阪公立大学　中百舌鳥キャンパス C10棟

■内容　小さな絵を描こう～微細加工のすすめ～③

■概要　クリーンルームに入室し、露光・現像を行なった基板を直流スパッタ装置の基板ホルダーにとり取り付けた。基板ホルダーはまずサブチェンバーにセットし、真空引きを行った。サブチェンバーの真空度が十分に上がった後、メインチェンバーに搬送し、アルゴンイオンを用いた直流スパッタ法によりクロム膜を99 nm蒸着した。取り出した基板はアセトンに浸けることでフォトレジストを溶解させた。フォトレジスト上のクロム膜は剥離し、シリコン基板に直接蒸着されたクロム膜だけが残ることでパターンを形成した。