活動情報

■日時　2025年8月3日（日）13時00分～17時00分

■会場　大阪公立大学　中百舌鳥キャンパス C10棟、イノベーションアカデミー スマートエネルギー棟

■内容　小さな絵を描こう～微細加工のすすめ～③

■概要　前回フォトレジストに微細構造を作製した基板に対してスパッタ法により膜厚50 nmのクロム薄膜を蒸着した。蒸着後、基板をアセトンに浸けて優しくゆすることでリフトオフを行い、シリコン基板上のクロム膜の微細構造を完成させた。完成させたパターンは光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡により撮影した。